在半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化浪潮與地緣政治博弈的雙重驅(qū)動(dòng)下，國(guó)內(nèi)電子特氣行業(yè)迎來(lái)關(guān)鍵突破。近日，華特氣體、南大光電等頭部企業(yè)宣布，其自主研發(fā)的28nm制程用電子特氣產(chǎn)品已通過(guò)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等頭部晶圓廠驗(yàn)證，標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)氣體正式進(jìn)入先進(jìn)制程供應(yīng)鏈體系，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控再添關(guān)鍵拼圖。

技術(shù)攻堅(jiān)：突破“芯片血液”純度壁壘

電子特氣被稱(chēng)為“芯片血液”，在光刻、刻蝕、離子注入等關(guān)鍵工藝中不可或缺。以28nm制程為例，其所需的高純?nèi)然?、六氟乙烷等氣體純度需達(dá)到6N級(jí)（99.9999%），雜質(zhì)含量控制在ppb（十億分之一）級(jí)別。此前，這類(lèi)氣體長(zhǎng)期被美國(guó)空氣化工、法國(guó)液化空氣等國(guó)際巨頭壟斷，國(guó)內(nèi)企業(yè)僅能供應(yīng)中低端產(chǎn)品。

驗(yàn)證突破：從“可用”到“好用”的質(zhì)變

頭部晶圓廠對(duì)氣體供應(yīng)商的認(rèn)證周期長(zhǎng)達(dá)18-24個(gè)月，需通過(guò)穩(wěn)定性、兼容性、良率提升等數(shù)十項(xiàng)指標(biāo)考核。此次國(guó)產(chǎn)氣體通過(guò)驗(yàn)證，不僅意味著技術(shù)參數(shù)達(dá)標(biāo)，更在產(chǎn)線實(shí)際運(yùn)行中展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì)：

• 華特氣體的28nm光刻氣產(chǎn)品（Ar/Ne/Xe混合氣）已批量供應(yīng)中芯國(guó)際，使光刻環(huán)節(jié)缺陷率降低15%；
• 南大光電的配套稀釋劑實(shí)現(xiàn)完全自供，助力客戶產(chǎn)線氦氣成本年節(jié)約超800萬(wàn)元；
• 晶合集成在28nm邏輯芯片驗(yàn)證中，采用國(guó)產(chǎn)特氣使刻蝕均勻性提升8%，為后續(xù)量產(chǎn)奠定基礎(chǔ)。

市場(chǎng)重構(gòu)：國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)入“快車(chē)道”

據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2025年中國(guó)電子特氣市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)230億元，占全球60%份額。政策與資本的雙重加持下，行業(yè)正加速?gòu)?ldquo;進(jìn)口依賴(lài)”向“自主可控”轉(zhuǎn)型：

• 政策端：國(guó)家發(fā)改委《關(guān)于加快電子特氣產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的指導(dǎo)意見(jiàn)》明確提出，到2030年產(chǎn)業(yè)規(guī)模突破千億元，對(duì)高純氯氣純化裝置等關(guān)鍵設(shè)備給予30%投資補(bǔ)貼；
• 資本端：2024年以來(lái)，南大光電、凱美特氣等企業(yè)累計(jì)融資超50億元，用于擴(kuò)建年產(chǎn)45噸前驅(qū)體、7200噸電子級(jí)三氧化氫等項(xiàng)目；
• 市場(chǎng)端：國(guó)產(chǎn)氣體在28nm及以上制程的滲透率已從2020年的15%提升至2025年的42%，在顯示驅(qū)動(dòng)芯片、CIS圖像傳感器等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)“強(qiáng)替代”。

未來(lái)展望：從“追趕”到“定義”的戰(zhàn)略躍遷

盡管?chē)?guó)產(chǎn)電子特氣已取得階段性突破，但高端領(lǐng)域仍面臨挑戰(zhàn)：

• 技術(shù)短板：7nm以下制程所需的超純氣體（9N級(jí)）仍依賴(lài)進(jìn)口，膜分離、吸氣劑等核心技術(shù)有待突破；
• 供應(yīng)鏈韌性：氖氣、氦氣等稀有氣體受地緣政治影響波動(dòng)劇烈，需加快國(guó)內(nèi)氖氣提純、氦氣回收等技術(shù)研發(fā)；
• 生態(tài)協(xié)同：需加強(qiáng)與設(shè)備商、晶圓廠的聯(lián)合攻關(guān)，構(gòu)建“材料-設(shè)備-工藝”一體化創(chuàng)新體系。

業(yè)內(nèi)專(zhuān)家指出，隨著28nm制程用氣體的規(guī)?；瘧?yīng)用，國(guó)產(chǎn)電子特氣將逐步向更先進(jìn)制程延伸。南大光電等企業(yè)已啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研項(xiàng)目，計(jì)劃2026年聯(lián)合中芯國(guó)際測(cè)試；昊華科技正在研發(fā)5N級(jí)高純鍺烷，瞄準(zhǔn)第三代半導(dǎo)體市場(chǎng)。在“安全可控”成為產(chǎn)業(yè)核心訴求的背景下，電子特氣的國(guó)產(chǎn)替代正從“單點(diǎn)突破”邁向“全鏈自主”的新階段。